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纳米镀膜
原子沉积过程可以在真空,气态,等离子体或电解环境中进行。而且,沉积室中的真空环境会将沉积过程中的气态污染降低到非常低的水平。
过去的几十年展示了PVD技术的发展,纳米镀膜设备,旨在改善涂层特性和沉积速率,而*保留初始表面清洁以去除可能的污染物。该技术已经得到了相关的改进,主要是在碳化物和纳米复合过渡金属氮化物衬底上。尽管这种方法的沉积速率有效性的提高一直是与这种技术有关的工业关注的重点,但研究仍集中在改善涂层的特性上。
在真空度较高的环境下,通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料以原子、分子或离子的形式逸出沉积物粒子,并且逸出的粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。.PVD大家族里主要有三位成员:真空蒸发沉积技术(蒸镀);溅射沉积技术;离化PVD技术。
蒸镀是在真空环境下,以各种加热方式赋予待蒸发源材料以热量,使源材料物质获得所需的蒸汽压而实现蒸发,所发射的气相蒸发物质在具有适当温度的基片上不断沉积而形成薄膜的沉积技术。
(1)化学气相沉积(CVD)反应温度一般在900~1200℃,中温CVD例如MOCVD(金属**化合物化学气相沉积),反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量,还可把反应温度降低。
“辅助”CVD的工艺较多,镀膜设备,主要有:
① 电子辅助CVD(EACVD)(也称为电子束辅助CVD,电子增强CVD,真空镀膜设备厂家,或电子束诱导CVD),涂层的形成在电子作用下得到改进。
② 激光辅助CVD(LACVD),也称为激光CVD或光子辅助CVD,真空镀膜设备厂,涂层的形成在激光辐照作用下得到改进。
③ 热丝CVD,也称为热CVD,一根热丝放在被镀物件附近进行沉积。
④ 金属**化合物CVD(MOCVD),是在一种**金属化合物气氛(这种气氛在室温时是稳定的,但在高温下分解)中进行沉积。