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纳米镀膜
气相沉积主要分为两大类:
化学气相沉积(,简称CVD);
物理气相沉积(,简称PVD)。
,人们利用易挥发的液体TiCI稍加热获得TiCI气体和NH气体一起导入高温反应室,让这些反应气体分解,再在高温固体表面上进行遵循热力学原理的化学反应,生成TiN和HCI,HCi被抽走,光学镀膜设备,TiN沉积在固体表面上成硬质固相薄膜。人们把这种通过含有构成薄膜元素的挥发性化合物与气态物质,在固体表面上进行化学反应,且生成非挥发性固态沉积物的过程,称为化学气相沉积(,真空镀膜设备厂家,CVD)。
涂层技术
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(FCA)配有高效的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为**,并且可以过滤掉大颗粒,镀膜设备,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,玻璃镀膜设备,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即使镀料蒸发,异华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
认识PVD物理气相沉积技术
物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空**、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、**导等特性的膜层。