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(2)各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进，大大扩大了制膜材料的选用范围，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或**物质，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。

(3)蒸发或溅射出来的制膜材料，在与待镀的工件生成薄膜的过程中，对其膜厚可进行比较的测量和控制，从而保证膜厚的均匀性。

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，化学气相沉积厂哪里近，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

薄膜均匀性的概念：

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，黄埔化学气相沉积，真空镀膜的均匀性已经相当好，超声波化学气相沉积，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

       不仅是镀膜应用广泛的设备，多功能真空镀膜机也是在真空环境下应用广泛的设备;真空镀膜机的工作原理各不相同，工艺也会影响其运行方式。负压镀膜机有真空系统，冷却系统，检测系统，化学气相沉积厂家哪里近，镀膜系统;有蒸发镀膜，磁控镀膜，离子式镀膜。

       多功能真空镀膜机主要是指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括真空离子蒸发、磁控溅射、 MBE分子束外延、 PLD激光溅射沉积等多种类型。其基本思想分为蒸发和溅射两种。