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纳米镀膜
周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用;而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗,又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘,在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气,要达到预期的真空度很难的。众所周,油封式机械泵不宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘埃的气体。水蒸气为可凝性气体,当大量抽除可凝性气体时,对泵油的污染会更加严重,结果使泵的极限真空下降,破坏了泵的抽气性能。
涂层技术
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,气相沉积设备厂商,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(FCA)配有高效的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为**,并且可以过滤掉大颗粒,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
物理气相沉积(PVD)工艺已经有100多年的历史了,等离子辅助PVD大约在80年前就申请了**。术语“物理气相沉积”仅在60年代出现。当时,需要通过发展众所周知的技术来发展真空镀膜工艺,例如溅射,真空,等离子体技术,磁场,气体化学,热蒸发,气相沉积设备公司,弓形和电源控制,如Powell的书中详细描述的。在过去的30年中,等离子辅助PVD(**VD)被分为几种不同的电源技术,例如直流(DC)二极管,气相沉积设备制造商,三极管,中国台湾气相沉积设备,射频(RF),脉冲等离子体,离子束辅助涂层等。,该过程在基本理解上存在一些困难,因此引入了必要的更改以提供好处,例如从涂层到基材的出色附着力,结构控制以及低温下的材料沉积。