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纳米镀膜
随着市场和研究人员的要求,随着基于传统工艺的新系统的出现,新的涂料性能得到了发展。即使通过蒸发工艺获得的沉积速率是理想的,但事实是,溅射沉积技术在质量和沉积速率方面取得了无疑的进步,响应了对此领域感兴趣的行业和研究人员的需求,气相沉积设备价格,甚至用作中间层,用于通过化学气相沉积(CVD)获得的其他涂层。
CVD是另一种在真空下沉积的方法,并且是使待沉积材料中的挥发性化合物与其他气体发生化学反应的过程,以产生沉积在基材上的非挥发性固体。
化学气相沉积TiN
将经清洗、脱脂和氨气还原处理后的模具工件,置于充满H2(体积分数为99.99%)的反应器中,加热到900-1100℃,通入N2(体积分数为99.99%)的同时,并带入气态TiCl4(质量分数不低于99.0%)到反应器中,则在工件表面上发生如下化学反应:
2TiCl4(气)+N2(气)+4H2(气)→2TiN(固)+8HCl(气)
固态TiN沉积在模具表面上形成TiN涂层,厚度可达3-10μm,副产品HCl气体则被吸收器排出。工艺参数的控制如下:
(1)氮氢比对TiN的影响
一般情况下,氮氢体积比VN2/VH2<1/2时,随着N2的增加,TiN沉积速率增大,涂层显微硬度增大;当VN2/VH2≈1/2时,沉积速率和硬度达到值;当VN2/VH2>1/2时,沉积速率和硬度逐渐下降。当VN2/VH2≈1/2时,气相沉积设备,所形成的TiN涂层均匀致密,晶粒细小,硬度,涂层成分接近于化学当量的TiN,而且与基体的结合牢固。因此,VN2/VH2要控制在1/2左右。
气相沉积设备
工艺特点
(1)广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。
(2)在产量方面,从单件到大批量皆可。
(3)有质量优势,沉积温度低,薄膜成份易控,小型气相沉积设备,膜厚与淀积时间成正比,均匀性,重复性好,气相沉积设备厂商,台阶覆盖性优良。
(4)工具涂层的生产效率不如PVD,具体取决于特定技术要求和辅助工艺。
化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的种技术,特别是对工具涂层更是这样。
镀膜机工艺在太阳能运用方面的运用当需求有用地运用太阳热能时,就要思考选用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所导致的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。